Generator prom. X GeniX 3D

Xenocs

Generator prom. X typu micro focus staje się obecnie standardem w systemach wykorzystujących promieniowanie rentgenowskie. Zapewnia on wysoki wydajny strumień oraz niskie koszty użytkowania.

Więcej szczegółów

  • Zapytaj o produkt
  • Zadaj pytanie

    Zapytaj o produkt: Generator prom. X GeniX 3D

    Generator X - GeniX 3D: krok dalej w kwestii wydajności

    Zobacz prezentację

    GeniX 3D jest krokiem do przodu w kwestii wydajności, łatwości użycia i integracji. Działa on zgodnie z tradycją serii GeniX, jest niezawodny, dostarcza stabilny promień i posiada standardową gwarancję na 3 lata. 

    Nowa platforma dostarcza źródło prom x o większej jasności, z nową optyką FOX 3D która pozwala na zwiększenie gęstości fotonów. Unikatowa optyka jednoodbiciowa zapewnia najwyższy użytkowy strumień dla danego promienia X.   

    Inteligentny projekt – wygoda użytkowania

    GeniX 3D korzysta z wstępnie skonfigurowanej optyki co maksymalnie upraszcza dostosowanie i integrację. Urządzenie dostarcza mechanicznie sterowany promień X który można wykorzystać w każdym typie dyfraktometru.

    Dzięki intuicyjnemu dopasowaniu w płaszczyźnie X/Y możliwe jest dokładne dostrojenie promienia w każdym momencie pomiaru.

    Dostępne dla różnorodnych zastosowań

    Dzięki swojej niespotykanej wydajności GeniX 3D zbliża do siebie systemy micro focus z wirującą anodą i systemy i systemy nisko kosztowe. Generator dostępny jest w różnych geometriach i o różnych długości fali co pozwala na wykorzystywanie generatora na przykład w dyfrakcji na pojedynczym krysztale, SAXS, pomiary naprężeń wewnętrznych czy badania cienkich warstw półprzewodników.

         

    Zapraszamy do obejrzenia przykładowych metod pomiarowych w których użyto generatorów naszej firmy.

    Wysoki strumień

    Model

    Rozmiar promienia w ognisku
    (µm)

    Divergencja
    (mrad)

    Strumień
    (ph/sec)

    Typowe zastosowanie

    GeniX 3D Cu High Flux *

    < 190

    6

    > 400 x 10^6

    Protein crystallography
    Micro stress analysis
    Powder diffraction

    GeniX 3D Mo High Flux

    < 130

    5

    > 25 x 10^6

    Small Molecule crystallography
    High pressure

    GeniX 3D Cr High Flux

    < 190

    6

    > 300 x 10^6

    Stress Analysis

    GeniX 3D Cu High Convergence *

    60

    70 x 35

    > 400 x 10^6

    Rapid X-ray Reflectometry (full beam)
    Scanning x-ray reflectometry (with slit)
    Micro x-ray fluorescence
    Small spot diffraction on thin film

    GeniX 3D Cu Low Convergence *

    < 250

    3

    > 120 x 10^6

    Small Angle X-ray Scattering
    Protein Crystallography

    *Configurations also available for short energy radiation (V, Cr)

    Mała plamka

    Model

    Rozmiar promienia w ognisku
    (µm)

    Divergencja
    (mrad)

    Strumień
    (ph/sec)

    Typowe zastosowanie

    GeniX 3D Cr Micro Spot

    < 30

    17

    > 12 x 10^6

    Stress Analysis
    Micro-XRF
    Micro-XRD

    GeniX 3D Cu Micro Spot

    < 30

    17

    > 18 x 10^6

    Stress Analysis
    Micro-XRF
    Micro-XRD

    GeniX 3D Mo Micro Spot

    < 55

    10

    > 1.8 x 10^6

    Micro-XRF
    Micro-XRD

    GeniX 3D Cu High Convergence *

    60

    70 x 35

    > 400 x 10^6

    Rapid X-ray Reflectometry (full beam)
    Scanning x-ray reflectometry (with slit)
    Micro x-ray fluorescence
    Small spot diffraction on thin film

    *Configurations also available for short energy radiation (V, Cr)

    Wersja kolimującaCollimating solutions

    Model

    Rozmiar promienia w ognisku
    (µm)

    Divergencja
    (mrad)

    Strumień
    (ph/sec)

    Typowe zastosowanie

    GeniX 3D Cu Ultra Low Divergence *

    1000 x 1500 
    at mirror exit

    0.4

    > 100 x 10^6

    Small Angle x-ray scattering
    HRXRD

    GeniX 3D Mo Low Divergence

    750 x 1200
    at mirror exit

    < 0.4

    > 5 x 10^6

    Small Angle x-ray scattering
    HRXRD

    *Configurations also available for short energy radiation (V, Cr)